Zařízení pro pokovování štětcem
video

Zařízení pro pokovování štětcem

Výroba desek plošných spojů a IC substrátů má klíčový krok zvaný-pokovování děr. Naše primární zařízení pro pokovování mědí to dělá. Na bezproudovou měď již nanesenou na stěnách otvorů provádíme galvanické pokovování, abychom vytvořili primární měděnou vrstvu.
Odeslat dotaz
Představení produktu

Primární vybavení pro pokovování mědi (řada JYC-PC-)

Vytvořeno pro pokovení plošných spojů-děrováním

 

Výroba desek plošných spojů a IC substrátů má klíčový krok zvaný-pokovování děr. Naše primární zařízení pro pokovování mědí to dělá. Na bezproudovou měď již nanesenou na stěnách otvorů provádíme galvanické pokovování, abychom vytvořili primární měděnou vrstvu. Tloušťka je typicky 5 až 12 mikronů. To poskytuje vodivý základ pro následné pokovování vzorem. Zajišťuje průchozí otvory- o průměru do 0,15 mm a poměrech stran (tloušťka desky dělená průměrem otvoru) až 12:1. Hodnota vrhací síly TP přesahuje 80 %. Splňuje požadavky IPC-6012 třídy 2 nebo 3. Naši klienti Shennan Circuits a Foxconn ověřili spolehlivost tohoto zařízení.

DSC01206

 

Materiály a konstrukce pro rovnoměrnou depozici

DSC01330

Hlavní konfigurace jsou vertikální průběžné pokovování nebo horizontální pokovování stříkáním. Nádrže mají nezávislé segmentované anody využívající fosforové měděné kuličky. Používají se rozprašovací systémy s křížovým{2}}průtokem s individuálně nastavitelnými průtoky pro každou trysku. Katodové oscilační nebo vibrační mechanismy odstraňují bubliny z povrchu desky. Všechny parametry včetně hustoty proudu, tlaku stříkání a teploty jsou plně automaticky řízeny pomocí PLC. Zařízení se připojuje k systémům MES. Bezproudová linka na pokovování mědí a vzorem SAP, kterou jsme poskytli Pekingskému institutu mikroelektroniky, byla o 10 let před domácími konkurenty.

Tři hlavní výhody

Za prvé,-pokrytí průchozích otvorů je vynikající.

Používá se segmentové řízení proudu s nezávisle nastavenou vysokou, střední a nízkou proudovou hustotou na vstupu a výstupu. Proudová hustota uvnitř otvoru je kompenzována. Poměr tloušťky mědi otvoru k tloušťce mědi povrchu TP dosahuje více než 85 %.

 

Za druhé, povrchová tloušťka mědi je jednotná.

Používají se systémy automatické identifikace létající tyče a software pro simulaci distribuce proudu. Pro různé velikosti desek je změna tloušťky mědi řízena v rozmezí ±1,5 mikronu.

 

Za třetí, analýza řešení je inteligentní.

Analyzátory cyklického voltametrického stripování (CVS) monitorují koncentrace přísad (zesvětlovač, vyrovnávač, supresor) v reálném čase. Přesnost automatického dávkování dosahuje ±0,5 ml/l.

 

 

Na co se kupující často ptají

 

Kupující se nás ptají: "Zákazníci PCB mají velmi vysoké požadavky na stejnoměrnost tloušťky mědi v otvoru. Jaké úrovně můžete dosáhnout?" Teplota lázně je 25±1 stupeň. Proudová hustota je 1,5 až 2,5 A/dm² ve ​​standardním procesním okně. Podlahová plocha zařízení je o 20 % menší než u tradičních uspořádání. Podporujeme speciální provedení příchytek pro tenké desky (0,05 mm) nebo silné desky (10 mm). Dodáváme nejen vybavení, ale kompletní služby optimalizace procesních parametrů. To zajišťuje rychlé spuštění produkce s výtěžností prvního{13}}průchodu přes 95 %.

 

Technické specifikace

Parametr

Specifikace

Primární tloušťka mědi

5 – 12 µm

Minimální průměr otvoru

Větší nebo rovno 0,15 mm

Maximální poměr stran

Menší nebo rovno 12:1

Hodnota TP (vrhací síla)

Větší nebo rovno 80 % (až 85 %+)

Variace tloušťky mědi

V rozmezí ±1,5 µm

Teplota lázně

25 ± 1 stupeň

Hustota proudu

1,5 – 2,5 A/dm²

Přesnost dávkování aditiva

±0,5 ml/l

Úspora podlahové plochy

20%

Platné normy

IPC-6012 Třída 2/3

 

Populární Tagy: zařízení pro pokovování štětcem, výrobci zařízení pro pokovování kartáčem, dodavatelé, továrna

Odeslat dotaz

Domů

Telefon

E-mail

Dotaz